Análisis
La empresa Lace Lithography, fundada en 2023 por Bodil Holst y Adrià Salvador Palau, está desarrollando una nueva técnica de fotolitografía en Barcelona que utiliza un haz de átomos de helio en lugar de luz ultravioleta para transferir patrones de chips a obleas de silicio. Esta tecnología busca superar las limitaciones de la litografía ultravioleta actual, utilizada por fabricantes como ASML, TSMC, Intel, Samsung, SK Hynix y SMIC. La compañía ha recibido 40 millones de dólares en financiación, incluyendo respaldo de Microsoft, y planea tener una herramienta de prueba y una planta piloto en 2029.
Hechos verificados
- 1Lace Lithography está desarrollando una nueva técnica de fotolitografía utilizando átomos de helio.
- 2La tecnología busca superar las limitaciones de la litografía ultravioleta actual.
- 3La empresa fue fundada en 2023 por Bodil Holst y Adrià Salvador Palau.
- 4Lace Lithography ha recaudado 40 millones de dólares en financiación, con respaldo de Microsoft.
- 5Una parte significativa del equipo de I+D opera desde Barcelona.
- 6La compañía planea tener una herramienta de prueba y una planta piloto en 2029.